| BIP |

Selektywne nakładanie powłok galwanicznych

Stacja DALISTICK D.2000 to urządzenie służące do selektywnego nakładania powłok galwanicznych. Praca zachodzi w znanych i ściśle kontrolowanych warunkach. Można swobodnie regulować temperaturę, przepływ oraz zużycie elektrolitu. Cały proces nadzorowany jest wg ilości ładunku, przepływającego prądu lub napięcia. Istotnym jest również praca w zamkniętym obiegu i niewielkie objętości kąpieli, a co za tym idzie, niewielkie straty elektrolitu. Narzędzie DALISTICK ma możliwość realizacji obróbki ograniczonej do funkcjonalnych stref bez wycieku elektrolitu. Dużą zaletą jest praca w każdej pozycji, od powierzchni płaskich pionowych i poziomych poprzez krawędzie lub nawet otwory o minimalnym promieniu 100mm. Mimo szerokiego zastosowania urządzenia wszelkie obróbki muszą być wcześniej konsultowane pod względem możliwości wykonania na danym elemencie/detalu.

W chwili obecnej możemy wykonywać pokrycia: kadmem, anodą zwykłą siarkową, cynkiem, pokrycie stopowe cynk-nikiel, nikiel twardy oraz chromem (warstwa flash, czyli chrom cienkowarstwowy).

Wymienione typy obróbek to jednak nie wszystkie. Istnieje możliwość wykonania innych, nietypowych pokryć jak złocenie czy platynowanie. Wiąże się to jednak z koniecznością zakupu odpowiednich preparatów (na zamówienie Klienta).

Głównym zadaniem stacji jest naprawa uszkodzonego pokrycia na detalu bez konieczności demontowania np. z konstrukcji bądź w miejscach trudnodostępnych. Co ważne, tak otrzymana powłoka wykazuje właściwości porównywalne z otrzymywanymi w tradycyjnych warunkach, tj. w kąpielach metodą zanurzeniową. W zależności od doboru parametrów i warunków prowadzenia procesu kolor pokrycia może być zbliżony do całej powłoki.

W miejscu połączenia starego i nowego pokrycia nie dochodzi do rozwarstwienia czy pękania powłok. Nie wchodzą one ze sobą w kontrakcję.

Ponadto kadmowanie z wykorzystaniem technologii DALISTICK nie prowadzi do wodorownia części, a co za tym idzie nie ma konieczności ich wygrzewania w celu usunięcia tzw. kruchości wodorowej.